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半導體顯象管用超純水設備
半導體顯象管用超純水設備應用:半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;超純材料和超純化學試劑;實驗室和中試車間;汽車、家電表面拋光處理;光電產品;其他高科技精微產品。
更新時間:2020-07-10
產品型號:ZSCK3000L
廠商性質:生產廠家
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- 產品詳細
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區分不同水質。
半導體顯象管用超純水設備原理:
采用電除鹽的技術,而電除鹽技術是利用混和離子交換樹脂吸附水中的陰陽離子,又在直流電壓的作用下,分別透過陰陽離子交換膜而清除的過程。這一過程的離子交換樹脂是能夠電連續再生的,所以就不需要使用酸和堿對之再生。這一新興技術可以代替傳統的離子交換裝置,生產出高達18M-CM的超純水。
半導體顯象管用超純水設備特點:
1、一般操作簡單管理方便,可集中管理,而各實驗室人員不需再做設備維護。
2、在終端使用點較多時,多采用中央純水系統,可降低設備投資運行及維護費用。
3、遠程全自動控制方式,符合現代實驗大樓的需求。采用PLC、觸摸屏、攝像監控等技術與遠程控制技術相結合,可以使制水設備的控制在遠離機房的辦公室內通過電腦操作,實時記錄保存水質變化,便于分析實驗水質與實驗結果數據的關系。
4、能夠減少設備占地面積,符合現代實驗大樓的裝修要求。
5、多數采用集中式制水主機,各實驗室無需安裝純水機和水箱,可以節約實驗室占地面積,符合現代實驗大樓的裝修要求。
優勢
1、整體化程度高、易于擴展、增加膜數量即可增加處理量。
2、自動化程度高,遇故障立即自停,具有自動保護功能。
3、膜組件為復合膜卷制而成,表現出更高的溶質分離率和透過速率。
4、能耗低、水利用率高、運行成本低。
5、結構合理,占地面積少。
6、先進的膜保護系統,在設備關機,淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈,延長膜壽命。
7、系統無易損部件,無須大量維修,運行長期有效。
8、設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。
影響運行的因素
1、EDI進水電導率的影響。在相同的操作電流下,隨著原水電導率的增加EDI對弱電解質的去除率減小,出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大,導致水的解離程度增強,極限電流增大,產生的H 和OH-的數量較多,使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。
2、工作電壓電流的影響。工作電流增大,產水水質不斷變好。但如果在增至點后再增加電流,由于水電離產生的H 和OH-離子量過多,除用于再生樹脂外,大量富余離子充當載流離子導電,同時由于大量載流離子移動過程中發生積累和堵塞,甚至發生反擴散,結果使產水水質下降。
3、濁度、污染指數(SDI)的影響。EDI組件產水通道內填充有離子交換樹脂,過高的濁度、污染指數會使通道堵塞,造成系統壓差上升,產水量下降。
4、硬度的影響。如果EDI中進水的殘存硬度太高,會導致濃縮水通道的膜表面結垢,濃水流量下降,產水電阻率下降;影響產水水質,嚴重時會堵塞組件濃水和極水流道,導致組件因內部發熱而毀壞。
5、TOC(總有機碳)的影響。進水中如果有機物含量過高,會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染,導致系統運行電壓上升,產水水質下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體,堵塞通道。
6、Fe、Mn等金屬離子的影響。Fe、Mn等金屬離子會造成樹脂的“中毒”。樹脂的金屬“中毒”會造成EDI出水水質的迅速惡化,尤其是硅的去除率迅速下降。另外變價屬對離子交換樹脂的氧化催化作用,會造成樹脂的*性損傷。
7、進水中CO2的影響。進水中CO2生成的HCO3-是弱電解質,容易穿透離子交換樹脂層而造成產水水質下降。